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新闻动态
  • 4英寸抛光片有哪些优势?[2020-10-06]由于抛光垫在日常生活中出现的频率较低,我们一般不会接触到它。抛光片是将纳米二氧化硅颗粒与高效粘合剂混合,均匀涂布在聚酯薄膜表面,干燥固化而成的一种产品。今天,相信很多人也会使第一次听到“抛光片”这个词...详情>>

  • 6英寸抛光片的使用步骤[2020-10-06]它是专为光纤连接器的超精密抛光而设计开发的。由于原颗粒尺寸较小,小于可见光的波长,均匀分布后形成透明或半透明的抛光膜。连接器后端无划痕和缺陷,光纤高度和反射衰减指数符合国际标准。在抛光过程中,抛光膜的...详情>>

  • 氮化镓的应用领域[2021-04-08]氮化镓是一种无机化合物,化学式GaN,是氮和镓的化合物。它是一种直接带隙半导体。自1990年以来,它已被用于发光二极管。其结构类似于纤锌矿,硬度很高。氮化镓具有3.4ev的宽能隙,可用于大功率、高速光...详情>>

  • 碳化硅片的市场前景[2021-03-22]碳化硅片的主要应用领域是LED固体照明和高频器件。该材料在带隙、漂移速度、击穿电压、热导率、耐高温等优良特性上比传统硅高几倍,在高温、高压、高频、大功率、光电、抗辐射、微波等电子应用中,以及在航空航天...详情>>

  • 我是氮化镓厂家![2021-03-09]氮化镓是一种无机材料,化学式Gan,是氮和镓的化合物。它是一种具有直接能隙的半导体。自1990年以来,它已被广泛用于发光二极管。其结构类似于纤锌矿,硬度很高。氮化镓具有3.4ev的宽能隙,可用于大功率...详情>>

  • 氧化硅片的制作工艺[2021-02-23]氧化硅片是在高温(800℃~1150℃)条件下,通过常压炉管设备,采用热氧化工艺,用氧气或水蒸气在硅片表面生长的一种二氧化硅薄膜。加工厚度为50nm~2μm,加工温度高达1100℃。生长方式分为“湿氧...详情>>

  • 氧化硅片的制备方法以及应用[2021-01-12]氧化硅片是在高温(800℃~1150℃)条件下,通过常压炉管设备,采用热氧化工艺,用氧气或水蒸气在硅片表面生长的一种二氧化硅薄膜。加工厚度为50nm~2μm,加工温度高达1100℃。生长方式分为“湿氧...详情>>

  • 3英寸抛光片的市场现状[2020-10-06]随着时代的变迁和经济的发展,目前直径3英寸抛光片已发展成为主流产品。当抛光片直径从200mm增加到300mm时,面积增加了2.25倍,但相应的成本只增加了305倍左右。与直径为200mm的晶圆生产线相...详情>>

  • 中国将氮化镓用于哪些领域?[2020-10-06]近年来,中国正投入数十亿美元大力推动本国微芯片的发展。此举可能会加强该国的军事实力和国内科技产业。在华盛顿,这些行动已经开始引起人们的注意。据《纽约时报》网站2月5日报道,一位专家和另一位参与交易讨论...详情>>

  • 铌酸锂晶体的应用领域[2020-10-06]铌酸锂晶体有着悠久的历史和最完整的物理效应。已用于制备声滤波器、延迟线、谐振器、相位调制器、电光调制器等器件。它在光通信技术、电子技术、激光技术等领域得到了广泛的应用,并在第五代无线通信技术、集成光子...详情>>

  • 碳化硅片市场有何优势?[2020-09-30]总的来说,碳化硅片的高压电阻是硅的10倍,高温电阻是硅的2倍,高频能力是硅的2倍。与硅基组件相比,由碳化硅二极管和开关管组成的组件不仅具有碳化硅固有特性的优点,而且可以使组件体积减少50%以上,电子转...详情>>

  • 实验科研用硅片工艺方法[2020-09-30]微机电系统是利用硅微加工技术在硅上制造出微小的“元件”,如微传感器、微开关、微加速度计、微电感等。在制造这些微“元件”的过程中,需要对一些金属材料进行电镀,例如铜和金,在硅上。实验科研用硅片工艺方法是...详情>>

  • 什么是氧化硅片?[2020-09-30]氧化硅片氧化的过程是指在硅片表面生长一层氧化层的过程。这层薄膜的作用是保护和钝化半导体表面,作为杂质选择性扩散的掩蔽层,作为电极引线和下面的硅器件之间的绝缘层,作为MOS电容器的介质层和MOS器件的栅...详情>>

  • 单晶硅抛光片有哪些生产工艺流程?[2020-09-30]目前,我国硅抛光片产业需求约6亿平方英寸,国内产量5.19亿平方英寸。部分产品仍需从国外进口以满足国内市场需求。近年来,我国集成电路产业的稳步发展给硅抛光芯片产业的发展带来了巨大的推动力。单晶硅抛光片...详情>>

  • 抛光硅片厂家教你抛光硅片的化学原理[2020-09-30]铜离子抛光通常在酸性条件下进行。当pH值高于7时,反应停止。这是因为在pH7时,铜离子和氨分子形成稳定的络合物——铜氨络合物离子。此时,铜离子大大减少,抛光效果停止。抛光反应速度非常快。为防止腐蚀,取...详情>>